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非破壊試験技術者 (NDI) 渦電流探傷 (ET) レベル1

「非破壊試験技術者 (NDI) 渦電流探傷 (ET) レベル1」の記事一覧

ヒステリシス曲線において、磁界をゼロに戻しても残る磁化を何と呼ぶか。

外部磁界をゼロにしたときに物質内部に残っている磁化を残留磁気という。

2026年5月30日

試験体内に発生する渦電流の分布はどのようになっているか。

表皮効果により、渦電流は導体の表面に近いほど強く流れる。

2026年5月30日

導電率の単位として「%IACS」が使われるが、基準となる金属はどれか。

1913年に定められた万国標準軟銅（IACS）の導電率を100%とする。

2026年5月30日

パンケーキコイルはどのような形状の試験体に適しているか。

平らな渦巻き状のパンケーキコイルは、平板の表面探傷に広く用いられる。

2026年5月30日

磁束密度の単位として国際単位系（SI）で用いられるのはどれか。

磁束密度の単位はテスラ（T）であり、1Tは1Wb/m2に相当する。

2026年5月30日

コイルに交流を流したとき、電流の位相は電圧に対してどうなるか。

理想的なインダクタ（L）では、電流の位相は電圧よりも90度（$\pi/2$）遅れる。

2026年5月30日

ノイズ比（S/N比）を向上させるための最も一般的な手法はどれか。

フィルタを用いて不要な周波数成分を除去することがS/N比向上の基本である。

2026年5月30日

非磁性体の導電率を測定する際、周波数を低く設定する理由はどれか。

低周波により浸透深さを深くし、表面近傍だけでなく厚み方向の情報を得る。

2026年5月30日

管の探傷で使用される標準試験片において、外表面きずと内表面きずの識別は何で行うか。

内外面のきずは渦電流の浸透時間（位相遅れ）の差によって識別できる。

2026年5月30日

表皮効果が生じる原因となる現象はどれか。

渦電流が作る磁界が元の磁界を打ち消すことで、深部への磁束侵入が妨げられる。

2026年5月30日