HOMELv002 集塵装置においてダイオキシン類の再合成(デノボ合成)を抑えるための対策はどれか。 2026年4月19日 排ガスを200度以下に急冷することでデノボ合成の温度域を素早く通過させる。 ダイオキシン類対策特別措置法における底質の環境基準値はどれか。 ダイオキシン類対策特別措置法に基づき特定施設の設置者が行う測定頻度はどれか。