HOMELv007 プラズマエッチングで特定の膜だけを削る性能を何というか。 2026年4月22日 下地やマスクに対するエッチング速度の比を選択比と呼ぶ。 スパッタリングで膜の均一性を高めるために行う操作はどれか。 チャネリング現象が発生しやすい条件はどれか。