HOMELv005 大気圧から高真空まで広範囲を1台でカバーしにくい理由はどれか。 2026年4月22日 真空度により気体の流れが粘性流から分子流に変化するためである。 真性半導体のフェルミ準位は通常どこに位置するか。 ALD(原子層堆積法)の最大の特徴はどれか。