プラズマCVDにおいて、ガスを均一に供給するための板を何というか。

2026年4月22日

多数の穴が開いた板を通してプロセスガスを均一に分散させる。

レジスト塗布前に表面を疎水化するために用いる薬品はどれか。

ウェットエッチングのデメリットはどれか。