めっき法で銅配線を形成する際に必要な薄い金属層を何というか。

2026年4月22日

めっき成長の起点となる導電層（シード層）を事前に形成する。

レジストの「解像限界」を決定するレイリーの式におけるk1とは何か。

ポリシリコンゲートのエッチングにおいて最も重視される性能はどれか。