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半導体製品製造技能士 2級 (学科)
「半導体製品製造技能士 2級 (学科)」の記事一覧
スカロッピングとはどのような現象か。
深掘りエッチング(Deep RIE)において側壁に生じる周期的な凹凸である。
2026年4月22日
アルミニウム配線で問題となる「エレクトロマイグレーション」の原因はどれか。
高電流密度により電子が金属原子を突き動かし、断線や短絡を招く。
2026年4月22日
段差被覆性(ステップカバレッジ)が良い成膜方法はどれか。
CVDは気相反応のため、凹凸部にも比較的均一に成膜できる。
2026年4月22日
シリコン結晶内の「すべり(スリップ)」が発生する主な原因はどれか。
熱応力が結晶の降伏応力を超えると格子面に沿ってずれが生じる。
2026年4月22日
オーバーレイ(重ね合わせ)精度とは何を指すか。
前の工程で作ったパターンに対し、次のパターンをどれだけ正確に重ねられるかである。
2026年4月22日
トンネル効果が発生しやすくなる条件はどれか。
障壁が極めて薄いと量子力学的に粒子が通り抜ける確率が高まる。
2026年4月22日
パレート図を用いて分析する「重点管理」の考え方はどれか。
上位少数の項目が全体の大部分を占めることに注目する。
2026年4月22日
酸素欠乏症の恐れがある環境の酸素濃度基準は何%未満か。
酸素濃度18%未満の状態を酸素欠乏と定義し、厳重な管理を要する。
2026年4月22日
イオン注入のドーズ量の単位はどれか。
単位面積あたりに打ち込まれた不純物の総数を示す。
2026年4月22日
ダイオードの整流作用とはどのような性質か。
アノードからカソードへは流すが逆方向には流さない性質である。
2026年4月22日
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